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计算光刻与版图优化
Computational lithography & layout optimization丛 书 名：中国科学院大学研究生教学辅导书系列
版本说明：1
I S B N：(纸本) 9787121402265
出 版 社：电子工业出版社
出 版 年：2021年
页 数：10,238页页
主 题 词：集成电路工艺
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 12[管理学] 1201[管理学-管理科学与工程(可授管理学、工学学位)] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学]
摘 要：本书共7章，首先对集成电路设计与制造的流程做简要介绍，接着介绍集成电路物理设计(版图设计)的全流程，然后介绍光刻模型、分辨率增强技术、刻蚀效应修正、可制造性设计，最后介绍设计与工艺协同优化。
