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纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计
Nanoscale CMOS VLSI circuits design for manufacturability丛 书 名：集成电路设计
版本说明：1版
I S B N：(纸本) 9787030400345
出 版 社：科学出版社
出 版 年：2014年
页 数：261页
主 题 词：电路设计 CMOS电路 纳米材料 超大规模集成电路
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 12[管理学] 1201[管理学-管理科学与工程(可授管理学、工学学位)] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学]
馆 藏 号：201403528...
摘 要：本书的内容包括：CMOSVLSI电路设计的技术趋势，半导体制造技术，光刻技术，工艺和器件的扰动和缺陷分析与建模，面向可制造性的物理设计技术，测量、制造缺陷和缺陷提取，缺陷影响的建模和合格率提高技术，物理设计和可靠性，DFM工具和DFM方法。
