氩气源低温常压等离子体改善牙本质⁃自酸蚀粘接界面粘接效果的体外研究

作     者：王丹杨 刘增瑞 李璇 丁鹏 谢娜 王路明 WANG Danyang;LIU Zengrui;LI Xuan;DING Peng;XIE Na;WANG Luming

作者机构：西安医学院口腔医学院口腔修复学教研室陕西西安710021 西安医学院校医院未央区(未央湖医学院社区卫生服务中心)陕西西安710021 西安医学院口腔医学院口腔内科学教研室陕西西安710021 西安医学院附属第二医院口腔科陕西西安710038 

出 版 物：《口腔疾病防治》 (Journal of Prevention and Treatment for Stomatological Diseases)

年 卷 期：2023年第31卷第1期

页      面：23-27页

学科分类：1003[医学-口腔医学] 10[医学] 

基　　金：国家自然科学基金青年项目(81701014) 国家级大学生创新创业训练计划项目(202011840006) 陕西省大学生创新创业训练计划项目(S202011840006) 西安医学院大学生创新创业训练计划项目(121520006) 

主　　题：低温等离子体 氩气 自酸蚀粘接剂 牙本质 粘接界面 粘接强度 接触角 润湿性 

摘      要：目的探讨氩气源低温常压等离子体(nonthermal argonatmos phericpressure plasma,NTAPP)射流处理不同时间对牙本质⁃自酸蚀粘接剂粘接界面粘接强度及牙本质润湿性的影响。方法使用NTAPP发生装置(放电输入功率:9 W,氩气气体流量:5 L/min),分别处理5组(n=6)人牙本质试件(0、5、10、15、20 s)后,使用S3 Bond粘接剂处理牙面,制作微拉伸粘接试件并测量各组即刻粘接强度。同样参数、同样分组条件下处理牙本质面后测量牙本质表面接触角。结果随着NTAPP处理时间延长,牙本质即刻粘接强度呈显著上升趋势,以处理15 s组粘接强度最高(31.82±2.80)MPa。随着NTAPP处理时间延长,与阴性对照组牙本质表面接触角(75.57°±1.45°)相比,各实验组牙本质表面接触角均显著减小,以处理15 s组牙本质表面接触角(33.56°±2.14°)最低,湿润性最大。结论NTAPP处理可显著增加牙本质表面湿润性,提高与自酸蚀粘接剂粘接界面的粘接强度,这与处理时间相关。