一种评价磁流变抛光工艺误差抑制能力的方法

作     者：高博 范斌 王佳 吴湘 辛强 GAO Bo;FAN Bin;WANG Jia;WU Xiang;XIN Qiang

作者机构：中国科学院光场调控科学技术全国重点实验室成都610209 中国科学院先进光学研制中心成都610209 中国科学院光电技术研究所成都610209 中国科学院大学北京100049 

出 版 物：《激光技术》 (Laser Technology)

年 卷 期：2025年第49卷第1期

页      面：135-143页

学科分类：080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080401[工学-精密仪器及机械] 0804[工学-仪器科学与技术] 0803[工学-光学工程] 

基　　金：国家重点研发计划资助项目(2021YFC2202101) 

主　　题：光学制造 误差评价 平滑谱曲线 中频误差 

摘      要：为了分析磁流变加工过程中去除函数对加工精度的影响以及去除函数的抗中频误差性能,采用平滑谱方法对加工中误差抑制能力进行了评估。通过非球面光学元件对平滑谱方法及传统功率谱方法进行了理论分析、仿真实验及实验验证,采用平滑谱方法及传统功率谱方法分析了去除函数对非球面光学元件的面形误差和中频误差的抑制能力。结果表明,平滑谱方法对加工中误差抑制能力即去除函数可修正的面形误差值为0.22 mm-1;平滑谱函数可直观地判断去除函数对面形误差和中频误差的抑制能力,并可明确地定量化判断中频误差的变化规律。此方法为磁流变加工中误差抑制能力的评估问题提供了一种解决方案。