咨询与建议

看过本文的还看了

相关文献

该作者的其他文献

文献详情 >盲孔数值仿真电镀铜研究进展 收藏

盲孔数值仿真电镀铜研究进展

Advances in numerical simulation of copper electroplating in blind vias

作     者:方正 韦相福 杨广柱 毛献昌 位松 胡小强 陈德灯 Fang Zheng;Wei Xiangfu;Yang Guangzhu;Mao Xianchang;Wei Song;Hu Xiaoqiang;Chen Dedeng

作者机构:广西交通职业技术学院汽车工程学院广西南宁530023 广西大学机械工程学院广西南宁530004 桂林电子科技大学机电工程学院广西桂林541004 华为技术有限公司中央研究院广东深圳518129 

出 版 物:《电镀与精饰》 (Plating & Finishing)

年 卷 期:2025年第47卷第3期

页      面:106-115页

学科分类:081702[工学-化学工艺] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 

基  金:广西自然科学基金项目(2020GXNSFBA297109) 广西科技基地和人才专项(AD20297023) 广西科技重大专项资助(AA22068101) 广西高校中青年教师科研基础能力提升项目-电动汽车高功率逆变器芯片的封装技术研究(2023KY1154) 智能车用高频化电路板对流电镀装置的设计与研究(2023KY1173) 硅通孔(TSV)超级填充电镀铜仿真与实验研究(2024KY1173) 新能源汽车高频电路板互连微孔金属化制造研究(2024KY1183) 先进电子封装玻璃通孔制造及其金属化技术研究(2025KY1168) 

主  题:盲孔填充 电镀铜 添加剂 数值仿真 

摘      要:随着电子器件的高度集成化发展,微电子互连结构作为电气导通的关键组成部分,面临着诸多挑战,尤其在电镀铜金属化方面。其中,实现盲孔无缺陷填充的电镀铜技术的研发成为行业亟需解决的重要问题。先进电镀铜技术的开发需要综合考虑添加剂、镀液对流等关键因素的强耦合作用,而数值仿真技术在应对此类问题时具有显著优势。笔者从数值仿真的视角出发,系统梳理了盲孔电镀铜的研究进展,深入分析了添加剂的作用机理,探讨了盲孔的超级填充电镀机制,并讨论了添加剂浓度、电流参数和对流条件等关键因素对盲孔电镀铜效果的具体影响,旨在为电子电镀铜技术的高效研发提供参考。

读者评论 与其他读者分享你的观点

用户名:未登录
我的评分