沉积速率对H4膜光学带隙及激光损伤特性的影响

作     者：徐均琪 苏俊宏 杭良毅 基玛.格拉索夫 XU Jun-qi;SU Jun-hong;HANG Liang-yi;GOLOSOV Dmitriy A.

作者机构：西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室西安710021 白俄罗斯国立信息与无线电电子大学 

出 版 物：《光电子．激光》 (Journal of Optoelectronics·Laser)

年 卷 期：2016年第27卷第10期

页      面：1054-1059页

核心收录：

学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：国家自然科学基金(61378050) 科技部国际合作(2013DFR70620)资助项目 

主　　题：薄膜 H4 光学带隙 折射率 激光损伤阈值(LIDT) 

摘      要：采用电子束热蒸发技术在石英基底上制备了H4薄膜,并对其光学和激光损伤特性进行了研究。根据透射率谱计算出薄膜的光学带隙发现,光学带隙随着沉积速率的降低而增大,其值大小在4.66～4.73eV。椭偏测试结果表明,当沉积速率从0.92nm/s、0.17nm/s、0.08nm/s降低到0.03nm/s时,薄膜折射率从1.955 2、1.919 8、1.901 8降低到1.895 4（1 064nm）。所有样品的消光系数量级均优于10-5,说明薄膜表现出极小的吸收。薄膜的激光损伤形貌和激光损伤阈值（LIDT）受沉积速率的影响不大,同一激光能量作用下,薄膜的损伤斑大小基本一致,但0.92nm/s时制备的薄膜,其损伤区与未损伤区存在相互交错现象。当沉积速率从0.03nm/s变化到0.92nm/s时,薄膜激光损伤阈值在16～17J/cm^2（1 064nm,10ns）之间。