大模场光纤研究的新进展

作     者：廖素英 巩马理 Liao Suying;Gong Mali

作者机构：桂林空军学院广西桂林541003 清华大学精密仪器与机械学系光子与电子技术研究中心摩擦学国家重点实验室北京100084 

出 版 物：《红外与激光工程》 (Infrared and Laser Engineering)

年 卷 期：2011年第40卷第3期

页      面：455-462页

核心收录：

学科分类：080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080401[工学-精密仪器及机械] 0804[工学-仪器科学与技术] 0803[工学-光学工程] 

基　　金：国家973计划资助项目(61359020101) 

主　　题：光纤激光器 大模场光纤 模场直径 模式转换 

摘      要：为克服光纤非线性效应和光纤损伤等对光纤激光功率增长的限制,高功率增益光纤通常采用大模场光纤结构。总结了目前大模场光纤实现的3条主要技术途径:光纤结构设计、模式选择控制和模式转换,说明各种技术途径的基本思想及主要光纤的特点,在此基础上,指出:这些方法真正应用到实际还面临着模场畸变、高阶模抑制、光纤激光系统综合分析以及光纤加工工艺等需要克服的技术难题。最后,从光纤的性能特点、加工难易程度以及研究的理论和实验水平几方面综合比较,高阶模光纤的模式转换法和基于增益控制的反折射率导引方式是实现大模场光纤激光的两种最有效的方法,其模场面积的提升具有较大的空间。