过程均值偏移随机的EWMA控制图优化设计

作     者：朱海平 尹惠 邓宇浩 黄丹 ZHU Ha-ping;YIN Hui;DENG Yu-hao;HUANG Dan

作者机构：华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室湖北武汉430074 

出 版 物：《计算机集成制造系统》 (Computer Integrated Manufacturing Systems)

年 卷 期：2014年第20卷第11期

页      面：2820-2825页

核心收录：

学科分类：080202[工学-机械电子工程] 08[工学] 0802[工学-机械工程] 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(51275191) 中央高校基本科研业务费资助项目(HUST:2014TS033) 

主　　题：统计过程控制 指数加权移动平均控制图 优化模型 质量损失 过程均值偏移 

摘      要：针对过程均值偏移随机的情况,提出一种统计经济最优的指数加权移动平均控制图优化设计方法。该方法将过程受控、失控未检出、失控被检出并进行恢复这三个阶段定义为一个周期,分析了三个阶段的平均时长及质量成本构成,通过计算产品质量特性超出规格界限的概率量化缺陷产品所造成的质量损失,以单位时间内期望成本最小为目标建立指数加权移动平均控制图优化模型并设计了遗传算法,优化了样本容量、采样间隔、平滑界限和控制界限等参数。通过与休哈特均值控制图、传统指数加权移动平均控制图等进行对比验证了该模型的优越性。