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单个DNA分子光敏断裂过程的观察
作者机构：中国科学院上海原子核研究所单分子探测与单分子操纵实验室.上海201800.
出 版 物：《科学通报》 (Chinese Science Bulletin)
年 卷 期：2003年第48卷第4期
页 面：345-347页
核心收录：
学科分类：0710[理学-生物学] 071010[理学-生物化学与分子生物学] 081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术]
基 金：中国科学院知识创新工程重大项目(批准号:KJCX-06 KSCXI-06) 中国科学院特别支持项目(批准 号:STZ-00-07) 中国科学院项目配套基金资助项目 国家自然科学基金"九五"重大项目(批准号:19890385) 上海市优秀学科带头人资助计划项目(批准号:00XD14029)
主 题：DNA分子 光敏断裂过程 YOYO-1染料染色 原子力显微镜 荧光显微镜 衬底修饰 分子梳技术 弹性回缩
摘 要：利用荧光显微镜和冷却CCD记录单个拉直的λDNA分子在光照下逐渐断裂的动态过程.λDNA兮子经高效的YOYO-1染料染色后,用分子梳技术拉直,并使DNA链的若干局部点固定在APS修饰的玻片上,在蓝光的照射下,观察λDNA的断裂和断裂后的弹性回缩过程,结果表明,DNA构象的变化以及水分子的用用,有可能使DNA在光照的作用下更加容易断裂,此技术将在研究DNA弹性、DNA与染料相互怍用以及肿瘤治疗中起一定的作用.
