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电子束曝光数据格式转换中的图形离散算法研究
Study on Graphics Discrete Algorithm for Electron Beam Lithography Data Format Conversion作者机构：北方工业大学信息工程学院微电子中心北京100041 中国科学院电工研究所北京100190
出 版 物：《微电子学与计算机》 (Microelectronics & Computer)
年 卷 期：2010年第27卷第4期
页 面：201-204页
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 0835[工学-软件工程] 081202[工学-计算机软件与理论] 0812[工学-计算机科学与技术（可授工学、理学学位）]
摘 要：开展了圆环弧类图形离散算法的研究,提出了一种以图形的曲率半径作为离散精度依据的离散算法,既保证了高的离散精度又减小了数据量,提高了数据传输效率.该算法为曝光版图中不断出现的圆环弧类图形进行精确曝光提供了保障.通过图形实例进行验证,表明此种离散方法合理,离散结果适于电子束曝光要求.
