中阶梯光栅刻划误差要求分析

作     者：丁卫涛 黄元申 张大伟 杨海马 DING Weitao;HUANG Yuanshen;ZHANG Dawei;YANG Haima

作者机构：上海市现代光学系统重点实验室教育部光学仪器与系统工程中心上海理工大学光电信息与计算机工程学院 

出 版 物：《光电工程》 (Opto-Electronic Engineering)

年 卷 期：2013年第40卷第9期

页      面：68-75页

核心收录：

学科分类：070207[理学-光学] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学] 

基　　金：国家自然科学基金(61176085 11105149) 国家科技支撑计划(2011BAF02804) 国家重大科学仪器设备开发专项(2011YQ15004004) 上海市教委曙光项目(11SG44) 上海市超精密光学加工与检测服务平台建设(11DZ2290301) 上海市重点学科建设项目(S30502) 高等学校博士学科点专项科研基金(2012312013000) 

主　　题：刻划误差 误差分析 中阶梯光栅 衍射效率 

摘      要：中阶梯光栅作为高色散和高分辨率光学器件,已经广泛的应用于大型光谱仪器之中。在中阶梯光栅的刻划过程中,存在刻划误差,这将严重影响光栅衍射性能,最终使得衍射效果产生缺陷。针对此情况,定量分析了中阶梯光栅的刻划误差对衍射光谱、衍射级次、波前误差、鬼线强度、杂散光强度的影响以及提出了一种从衍射效率角度分析刻划误差的方法。在满足一定条件下,求得上述因素对应的刻划误差分别为:1 265.8 nm、352 nm、37 nm、112 nm、3.4 nm。这对光栅刻划时限定刻划机的刻划精度提供了直接和重要的参考。