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改性SU8光刻胶的光学特性及其工艺
Optical properties and process of the diluted SU8 resist作者机构：上海交通大学微纳技术研究院微米纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030
出 版 物：《功能材料与器件学报》 (Journal of Functional Materials and Devices)
年 卷 期：2009年第15卷第3期
页 面：259-263页
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
基 金：国家重点实验室基金资助(No.914OC7903070608 9140C7903060706)
摘 要：通过改变SU-8光刻胶中PAG浓度获得含不同PAG浓度的各种改性SU-8光刻胶,在对其光学性能以及最小曝光剂量的测定基础上研究改性SU-8光刻胶的光刻工艺,借助于改性SU-8光刻胶的合理设计以及背面曝光和正面曝光的结合应用提高多元材料复杂结构的集成制造能力。
