50～11O nm波段高反射率多层膜的设计与制备

作     者：李存霞 王占山 王风丽 朱京涛 吴永荣 王洪昌 程鑫彬 陈玲燕 LI Cun-xia;WANG Zhan-shan;WANG Feng-li;ZHU Jing-tao;WU Yong-rong;WANG Hong-chang;CHENG Xin-bin;CHEN Ling-yan

作者机构：同济大学精密光学工程技术研究所物理系上海200092 

出 版 物：《光子学报》 (ACTA PHOTONICA SINICA)

年 卷 期：2007年第36卷第10期

页      面：1862-1866页

核心收录：

学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：国家自然科学基金(60378021 10435050) 国家高技术研究发展计划(863计划)(2005AA843031) 教育部跨世纪优秀人才培养计划(NCET-04-0376) 同济大学校科研和教改项目 

主　　题：亚四分之一波长 多层膜 极紫外 高反射率 磁控溅射 

摘      要：阐述了50～110 nm强吸收波段亚四分之一波长多层膜的设计方法.这种膜系是由强吸收材料叠加而成,每层膜光学厚度小于四分之一个波长.与常规周期多层膜相比,这种膜系更适用于提高强吸收波段的反射率.利用该方法设计了50 nm处高反射多层膜,并以此为初始条件通过Levenberg-Marquart优化方法完成了50～110 nm强吸收波段宽带高反射率Si/W/Co多层膜的设计,其平均反射率达到45%.采用直流磁控溅射方法制备了Si/W/Co多层膜,用X射线衍射仪(XRD)对膜层结构进行了测试,测试结果表明制作出的多层膜结构与设计结构基本相符.