基于DFT和UV-Vis的金丝桃苷印迹相互作用分析

作     者：刘军 杨鲁伟 张振涛 樊永明 刘永升 LIU Jun;YANG Lu-wei;ZHANG Zhen-tao;FAN Yong-ming;LIU Yong-sheng

作者机构：北京林业大学材料科学与技术学院北京100083 林木生物质化学北京市重点实验室北京100083 中国科学院理化技术研究所北京100190 中国科学院大学北京100049 中国石油大学理学院北京102249 

出 版 物：《精细化工》 (Fine Chemicals)

年 卷 期：2019年第36卷第5期

页      面：882-891页

核心收录：

学科分类：081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 070305[理学-高分子化学与物理] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0703[理学-化学] 

基　　金：国家重点研发计划(2017YFF0207804) 

主　　题：金丝桃苷 DFT UV-Vis 相互作用 分子印迹 中药现代化技术 

摘      要：为提高金丝桃苷(HYP)印迹效率,通过密度泛函理论(DFT)和紫外-可见光吸收光谱(UV-Vis)实验法对HYP、丙烯酰胺(AM)、衣康酸(IA)及其不同摩尔比例的HYP-AM和HYP-IA复合物进行理论计算和紫外光谱的测定,使用分子静电势(MEP)预测HYP、AM和IA的印迹活性位点,探讨HYP和AM(IA)分子间相互作用的印迹机理。结果表明:HYP中O11可与AM中H9(或H10)以及IA中H2(或H15)形成强氢键作用,而O12—H13、O15—H16、O25—H26、O27—H28、O41—H42、O44—H45、O47—H48、O52—H53可与AM中O7以及IA中O4(或O13)形成强氢键作用。HYP-AM和HYP-IA复合物系统的高摩尔比可以增加复合物的总相互作用能量。通过筛选不同功能单体可以增强活性位点之间的相互作用强度。HYP与AM(IA)之间发生的强氢键作用导致Ⅰ、Ⅱ、Ⅳ吸收峰发生红移,同时验证了DFT理论计算的准确性。HYP-AM和HYP-IA复合物的最优印迹比分别为n(HYP)∶n(AM)=1∶8和n(HYP)∶n(IA)=1∶7,且HYP-IA比HYP-AM的相互作用力更强,IA是更好的功能单体。