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基于65nm工艺数字IC物理设计中信号串扰的预防

The Prevention of Signal Crosstalk in Digital IC Physical Design Based on 65nm Technology

作     者:王淑芬 吴秀龙 Wang Shufen;Wu Xiulong

作者机构:安徽大学微纳电子器件与集成电路设计省级实验室 

出 版 物:《电子技术(上海)》 (Electronic Technology)

年 卷 期:2012年第39卷第1期

页      面:47-48页

学科分类:070207[理学-光学] 07[理学] 0702[理学-物理学] 

基  金:安徽省教育厅重点科研项目(KJ2010A022) 

主  题:串扰 物理设计 数字集成电路 

摘      要:数字集成电路的不断发展和制造工艺的不断进步,使得物理设计面临着越来越多的挑战。特征尺寸的减小,使得后端设计过程中解决信号完整性问题是越来越重要。互连线间的串扰就是其中的一个,所以在后端设计的流程中,对串扰的预防作用也显得尤为重要。本文就TSMC 65nm工艺下,根据具体的设计模块,探索物理设计流程中如何才能更好的预防串扰对芯片时序的影响。

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