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环氧基紫外负性光刻胶的特性、应用工艺与展望
THE PROPERTIES, APPLICATION PROCESSING AND PROSPECT OF EPOXY-BASED NEGATIVE PHOTORESIST SU-8作者机构：薄膜与微细技术教育部重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳米技术研究院上海200030
出 版 物：《高分子材料科学与工程》 (Polymer Materials Science & Engineering)
年 卷 期：2004年第20卷第4期
页 面：59-61页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
主 题：环氧基紫外负性光刻胶 应用 双酚A酚醛缩水甘油醚环氧树脂 有机聚合物胶体 光刻 结构性能 微线圈 微弹簧
摘 要：环氧基紫外负性光刻胶(SU-8)是一种近几年发展起来的新型的光刻胶材料。它是一种双酚A酚醛缩水甘油醚环氧树脂溶解于GBL(γ-Butyrolactone)而形成的高分子有机聚合物胶体。SU-8胶作为一种光刻材料,由于其独特的光学性能,力学性能和化学性能等,在MEMS(Micro-electro-mechanic-sys-tem)研究领域正受到了越来越多的关注,目前已被广泛的应用于MEMS器件的制备中。本文介绍了它的结构性能以及发展前景并报道了我们在其加工工艺上的研究进展。
