原位形成氧氮玻璃中间层连接Si_3N_4陶瓷

作     者：刘春凤 虞鸿江 林英魁 张杰 叶枫 黄玉东 LIU Chunfeng;YU Hongjiang;LIN Yingkui;ZHANG Jie;YE Feng;HUANG Yudong

作者机构：哈尔滨工业大学材料科学与工程学院哈尔滨150001 哈尔滨工业大学化工学院哈尔滨150001 

出 版 物：《硅酸盐学报》 (Journal of The Chinese Ceramic Society)

年 卷 期：2013年第41卷第2期

页      面：275-280页

核心收录：

学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 

基　　金：国家自然科学基金(50902029 51021002) 哈尔滨市青年科技创新人才基金(2010RFQXG022) 哈尔滨工业大学优秀青年教师培养计划(HITQNJS.2009.024) 国家博士后基金(20090450956)资助项目 

主　　题：氮化硅陶瓷 氧氮玻璃 连接 

摘      要：用Si3N4–Al2O3–Y2O3–SiO2混合粉制备用于连接氮化硅陶瓷的焊料,原位形成以氧氮玻璃为中间层的氮化硅陶瓷接头。研究了连接过程中温度、压力及气氛对陶瓷接头微观组织及性能的影响。结果表明:在0.1MPa氩气条件下,接头内含有一定量气孔,氮化硅母材有少量分解;氮气气氛、0.1 MPa条件下可保证陶瓷母材稳定、接头致密,在氧氮玻璃中间层均匀分布有β-SiAlON陶瓷相;当氮气气压增大到0.5 MPa时,陶瓷接头无法实现有效连接。在较低温度下,当连接压力由0.6 MPa增大到1.5 MPa时,接头弯曲强度提高;升高温度,接头强度出现峰值,在1 550℃时达到最高,连接压力对接头的影响减小;继续增大压力将使液相焊料流出,甚至母材自身发生变形。