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电沉积Ni—P非晶态合金的初期结构及形成机理
INITIAL STRUCTURE OF ELECTODEPOSTING Ni-P AMORPHOUS ALLOY AND ITS FORMATION MECHANISM作者机构：北京航空航天大学北京科技大学北京航空航天大学金属工学教研室
出 版 物：《材料研究学报》 (Chinese Journal of Materials Research)
年 卷 期：1996年第10卷第4期
页 面：419-422页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080502[工学-材料学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
基 金：国家自然科学基金 冶金部腐蚀-磨蚀与表面技术开放实验室项目
摘 要：在典型的用于电沉积Ｎｉ—Ｐ非晶态合金的溶液中，于非晶碳膜上恒电位［－９００ｍＶ（ＳＣＥ）］电沉积１ｓ后，发现有Ｎｉ的晶核形成，在相邻很近的Ｎｉ晶核之间沉积出Ｎｉ－Ｐ—Ｓ非晶核及不连续非晶镀层．证明电沉积Ｎｉ－Ｐ合金初期晶态Ｎｉ的形成并非基体外延所致．
