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用于制造和显现光学隐藏标记的方法

用于制造和显现光学隐藏标记的方法

专利申请号:CN200680055957.X

公 开 号:CN101512548B

发 明 人:尤里康斯坦廷诺维奇·尼奇恩科 

代 理 人:杨勇;郑建晖

代理机构:11285 北京北翔知识产权代理有限公司

专利类型:授权发明

申 请 日:20110907

公 开 日:20060804

专利主分类号:G06K9/00(20060101)

关 键 词:标记图像 显现 视觉 图像 特殊结构形式 抛光表面 稳定环境 稳定介质 物体表面 隐藏信息 电荷 非授权 抛光 局域 粒子 摩擦 伪造 清洁 平衡 

摘      要:本发明涉及一些方法,其用于记录-读取视觉隐藏信息,并可以用于显现视觉隐藏图像(标记)——其用于识别物体并保护它不被非授权复制(伪造)。本发明方法包括:预先抛光所关心物体的表面;通过修改抛光表面的至少一个区域,在所述表面上形成光学隐藏图像,由此改变被修改区域的表面能,同时修改粘滞度值——其像表面能一样取决于所关心表面上的表面电荷局域不平衡的程度。本发明方法也包括:通过在所关心物体的所述表面区域形成亚稳定介质,显现所述标记图像;依靠所述介质,获得一特殊结构形式的标记图像,所述特殊结构由亚稳定环境的稳定相粒子形成于该物体表面具有不同表面能的位置处。本发明方法的特征在于:在进行光学不可见标记图像的显现过程之前,所关心的具有被修改区域的表面通过摩擦被带电和清洁。

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