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原位反应装置及光学原位反应表征系统
专利申请号：CN201921295438.1
公 开 号：CN210863527U
代 理 人：吴梦圆
代理机构：11021 中科专利商标代理有限责任公司
专利类型：实用新型
申 请 日：20200626
公 开 日：20190809
专利主分类号：G01N21/3504(20140101)
关 键 词：反应单元 原位反应装置 支撑单元 流体传动单元 本实用新型 重复利用性 表征模式 表征系统 反应流体 连接结构 密封反应 原位反应 支撑作用 可拆卸 可清洗 密封性 密封罩
摘 要：一种原位反应装置及光学原位反应表征系统。该原位反应装置包括支撑单元，起支撑作用；反应单元，其设在支撑单元上，样品在所述反应单元内发生反应；密封罩单元，其设置在反应单元上，用于密封反应单元；以及流体传动单元，其为反应单元提供气体或液体的反应流体。本实用新型提供的原位反应装置，采用可拆卸、可清洗的连接结构，具有密封性良好、多功能性、重复利用性高等优点；还可以满足多种表征条件、多种表征模式的切换。
