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暗室结构

暗室结构

专利申请号:CN201922146401.9

公 开 号:CN211292598U

发 明 人:何太云 陈凯 张震 

代 理 人:刘欣

代理机构:44224 广州华进联合专利商标代理有限公司

专利类型:实用新型

申 请 日:20200818

公 开 日:20191204

专利主分类号:G01N21/76(20060101)

关 键 词:落料口 内腔 第一槽 壳体 平移结构 测光 连通 暗室结构 反应杯 错开 开口 本实用新型 遮光结构 制造成本 体积小 暗室 放入 遮光 移动 申请 

摘      要:本实用新型涉及一种暗室结构,包括:壳体,所述壳体上设置有具有开口的内腔,所述壳体上设置有连通所述内腔与外界的落料口;遮光结构,设于所述壳体上以对所述开口进行遮光;以及至少部分容置于所述内腔的测光平移结构,位于所述内腔的测光平移结构设置有用于放置反应杯的第一槽,所述测光平移结构在所述内腔移动以使所述第一槽连通所述落料口和错开所述落料口,所述第一槽连通所述落料口时,所述反应杯能够从所述落料口放入所述第一槽,所述第一槽错开所述落料口时,以使所述内腔形成暗室。本申请中的暗室结构简单,体积小,制造成本低。

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