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一种晶圆级计量标准器及其制备方法
专利申请号：CN202110069987.2
公 开 号：CN112881960A
代 理 人：崔方方
代理机构：61200 西安通大专利代理有限责任公司
专利类型：发明申请
申 请 日：20210601
公 开 日：20210119
专利主分类号：G01R35/00(20060101)
关 键 词：计量标准器 标准图形 二维栅格 图形区域 多晶硅薄膜 晶圆 种晶 外围 标准结构 测量设备 快速寻找 在线校准 晶圆级 微纳米 产线 制备 集成电路
摘 要：本发明公开了一种晶圆级计量标准器及其制备方法，属于微纳米二维栅格计量标准器领域。一种晶圆级计量标准器，包括晶圆，晶圆上设有多晶硅薄膜；多晶硅薄膜上设有图形区域，图形区域外围设有一级引导标记；图形区域包括二维栅格标准图形区域和位于其外围的二级引导标记；二维栅格标准图形区域内设有一个或多个标准图形。本发明的晶圆级计量标准器，在使用时具有一级和二级引导标记，能够快速寻找到相应的标准结构，使用方便快捷，能够进行集成电路产线测量设备的在线校准。
