一种研磨机下研磨盘用静压回转支撑装置

专利申请号：CN202021681486.7

公 开 号：CN213616032U

发 明 人：戴鑫辉 李林 乔石 姚欢 吕勋恩 

代 理 人：于晶晶

代理机构：11357 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙)

专利类型：实用新型

申 请 日：20210706

公 开 日：20200812

专利主分类号：B24B37/34(20120101)

关 键 词：静压 静压转台 旋转工件 固定面 静压油 上工作面 下研磨盘 回流盘 转轴 转动 回转支撑装置 本实用新型 托盘 带动旋转 旋转部件 良品率 研磨机 硅片 浮起 抬起 生产成本 承接 摩擦 穿过 

摘      要：本实用新型公开一种研磨机下研磨盘用静压回转支撑装置，其包括用于设置下研磨盘的旋转工件、设置于旋转工件下方的静压转台、设置在静压转台下用于承接静压油的回流盘、及穿过静压转台及回流盘与旋转工件连接的转轴，所述静压转台包括上工作面与下固定面，所述静压油通过注入静压转台上工作面与下固定面之间，上工作面浮起，从而实现转轴带动旋转工件的平稳转动，该装置利用静压油将静压转台上工作面抬起，避免了静压转台上工作面与下固定面之间的摩擦，从而确保了托盘与旋转部件之间的平稳转动，提高了硅片的成片质量，以及良品率，同时减少了生产成本，适合推广。