版权所有：内蒙古大学图书馆 技术提供：维普资讯• 智图
内蒙古自治区呼和浩特市赛罕区大学西街235号 邮编: 010021
基片处理装置、喷嘴检查方法和存储介质
专利申请号：CN202080055978.1
公 开 号：CN114269481A
代 理 人：北京尚诚知识产权代理有限公司龙淳;刘芃茜
代理机构：11322 北京尚诚知识产权代理有限公司
专利类型：发明专利
申 请 日：20220401
公 开 日：20200804
专利主分类号：B05B15/50(20180101)
关 键 词：释放口 液喷嘴 拍摄 检查图像 基片处理装置 释放处理液 附着物 附着状态 图像获取
摘 要：本发明的基片处理装置包括：从释放口对下方的基片释放处理液的液喷嘴；对液喷嘴的释放口的附近的全周进行拍摄的拍摄部；和控制部，控制部执行：图像获取控制，其获取在拍摄部中拍摄到的液喷嘴的释放口附近的全周的检查图像；和评价控制，其根据液喷嘴的释放口附近的全周的检查图像，进行附着物在液喷嘴的释放口的附着状态的评价。
