一种高频用中空二氧化硅纳米分散液及其制备方法与应用

专利申请号：CN202010334050.9

公 开 号：CN111499214B

发 明 人：宋锡滨 马雁冰 李心勇 潘光军 

代 理 人：北京智桥联合知识产权代理事务所(普通合伙)江莉莉

代理机构：北京智桥联合知识产权代理事务所(普通合伙)

专利类型：授权发明

申 请 日：20220701

公 开 日：20200424

专利主分类号：C03C17/00

关 键 词：中空二氧化硅 纳米分散液 纳米粉体 分散液 配制 低介电常数基板 浸渍 层层自组装 储存和运输 闭合空腔 材料化学 长期稳定 成膜工艺 成膜性能 基板材料 水热处理 常温下 镀膜 提拉 旋涂 制备 填充 调配 保存 应用 

摘      要：本发明属于材料化学技术领域，具体涉及一种高频用中空二氧化硅纳米分散液，并进一步公开其制备方法与应用。本发明所述高频用中空二氧化硅纳米分散液，直接以具有一定闭合空腔结构的中空二氧化硅纳米粉体为原料，经预调配和水热处理配制而成，所述分散液的中空二氧化硅与基板材料的结合强度显著提高，无需再次添加其他物质即可直接用于低介电常数基板材料的镀膜或填充。本发明所述中空二氧化硅分散液适用于旋涂、提拉浸渍、层层自组装等多种成膜工艺，且可在常温下长期稳定保存，成膜性能稳定，特别是直接以中空二氧化硅纳米粉体进行配制，有利于材料的储存和运输。