基于响应面模型的同步糖化发酵工艺参数的优化方法

专利申请号：CN202110595248.7

公 开 号：CN115404251A

发 明 人：胡世洋 王硕 岳军 宁艳春 陈希海 屈海峰 徐友海 惠继星 岳春雨 

代 理 人：北京康信知识产权代理有限责任公司金田蕴

代理机构：北京康信知识产权代理有限责任公司

专利类型：发明专利

申 请 日：20221129

公 开 日：20210528

专利主分类号：C12P19/02

关 键 词：同步糖化发酵 显著性 响应面模型 爬坡试验 软件统计分析 优化工艺参数 中心复合设计 降低生产 交互作用 模型数据 生产装置 试验设计 运行成本 组合设计 中心点 试验 发酵 优化 预测 

摘      要：本发明公开了一种基于响应面模型的同步糖化发酵工艺参数的优化方法。该优化方法包括：S1，初步确定同步糖化发酵工艺参数的控制范围，通过PB试验确定影响同步糖化发酵工艺的显著性参数，利用最陡爬坡试验确定显著性参数的合理控制范围；S2，选择同步糖化发酵工艺参数；S3，同步糖化发酵试验；S4，利用软件统计分析和PB试验设计确定出影响同步糖化发酵效果的显著性因素；再通过最陡爬坡试验，确定中心组合设计中各显著因素中心点及步长；并通过中心复合设计完成各显著性因素之间的交互作用并建立同步糖化发酵工艺参数的响应面模型。该模型除了可以预测生产装置发酵情况，还可以利用模型数据优化工艺参数实现降低生产运行成本的目的。