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表面波等离子体加工设备
专利申请号：CN201810876914.2
公 开 号：CN110797250B
代 理 人：北京天昊联合知识产权代理有限公司彭瑞欣;张天舒
代理机构：北京天昊联合知识产权代理有限公司
专利类型：发明专利
申 请 日：20221209
公 开 日：20180803
专利主分类号：H01J37/32
关 键 词：谐振腔 反应腔室 介质板 介质窗 底壁 表面波等离子体 加工设备 等离子体 刻蚀均匀性 密度分布 正投影 遮挡
摘 要：本发明提供一种表面波等离子体加工设备，包括反应腔室和设置在反应腔室顶部的谐振腔，谐振腔的底壁设置有介质窗，还包括介质板，介质板设置于谐振腔的底壁的下方，其中，介质板在谐振腔的底壁上的正投影遮挡至少部分介质窗以及至少部分介质窗以外的区域。本发明提供的表面波等离子体加工设备能够使反应腔室中的等离子体的密度分布更加均匀，从而提高刻蚀均匀性。
