版权所有:内蒙古大学图书馆 技术提供:维普资讯• 智图
内蒙古自治区呼和浩特市赛罕区大学西街235号 邮编: 010021
专利申请号:CN202211423374.5
公 开 号:CN116130506A
发 明 人:C·谢弗 P·哈内坎普 O·洪贝尔 A·科普罗斯基 W·莱纳特 F·J·桑托斯罗德里格斯
代 理 人:刘茜璐;吕传奇
代理机构:中国专利代理(香港)有限公司
专利类型:发明专利
申 请 日:20230516
公 开 日:20221115
专利主分类号:H01L29/06
关 键 词:半导体器件 保形 边缘终端区 金属特征 离子扩散 器件区 阻挡层 化学保护层
摘 要:提供了一种半导体器件和形成半导体器件的方法。在一个实施例中,半导体器件包括器件区、围绕器件区的边缘终端区、边缘终端区中的第一金属特征、第一金属特征之上的第一保形离子扩散阻挡层、以及第一保形离子扩散阻挡层之上的第一保形化学保护层。