一种分布式典型相关分析过程监测方法及装置

专利申请号：CN202310059039.X

公 开 号：CN116048024A

发 明 人：钟伟民 李智 杜文莉 钱锋 彭鑫 堵威 

代 理 人：上海专利商标事务所有限公司陶玉龙

代理机构：上海专利商标事务所有限公司

专利类型：发明专利

申 请 日：20230502

公 开 日：20230118

专利主分类号：G05B19/418

关 键 词：子块 残差 分块 采样数据 拓扑矩阵 整体统计 生成器 分析过程监测 检测技术领域 训练样本数据 分布式过程 计算复杂度 分析模型 故障产生 故障检测 过程监测 判断过程 数据传输 运行状态 控制限 统计量 建模 向量 监测 通讯 分析 

摘      要：本发明涉及分布式过程检测技术领域，更具体的说，涉及一种基于部分子块通讯的分布式典型相关分析过程监测方法及装置。本发明包括：对训练样本数据进行分块，并确定拓扑矩阵；依据拓扑矩阵对各个子块进行典型相关分析建模，构造残差生成器；根据残差生成器生成残差向量并计算统计量；对新的采样数据进行对应分块；将分块后的采样数据分别代入对应的典型相关分析模型，获取对应的典型相关成分；对每个子块进行故障检测，并得到子块的运行状态；计算所有子块的整体统计指标FD，通过比较整体统计指标FD和控制限判断过程是否有故障产生。本发明具有提高监测的敏感性、降低过程监测的计算复杂度和数据传输的负荷以及实现故障的初步范围定位等优点。