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内蒙古自治区呼和浩特市赛罕区大学西街235号 邮编: 010021
专利申请号:CN202223190277.4
公 开 号:CN219162420U
代 理 人:上海慧晗知识产权代理事务所(普通合伙)邵晓丽;陈成
代理机构:上海慧晗知识产权代理事务所(普通合伙)
专利类型:实用新型
申 请 日:20230609
公 开 日:20221130
专利主分类号:G02B6/10
关 键 词:光栅结构 波导基 耦入 衍射光 波导 本实用新型 刻蚀材料 图像光束 压印材料 折射率 目标衍射效率 衍射效率 制备工艺 传输 波导耦 复杂度 适配 衍射 增幅 配置
摘 要:本实用新型提供了一种衍射光波导,包括:波导基底;形成于波导基底表面的耦入光栅结构,耦入光栅结构用于将图像光束耦入波导基底并在波导基底内传输;形成于波导基底表面的耦出光栅结构,耦出光栅结构用于将波导基底内传输的图像光束从波导基底中衍射耦出;其中,耦出光栅结构被配置为:不同区域的结构对应的衍射效率适配于目标衍射效率;其中,构成耦入光栅结构的材料是刻蚀材料;构成耦出光栅结构的材料是压印材料;刻蚀材料的折射率高于压印材料的折射率。本实用新型提供的技术方案,可以在获得较佳的衍射光波导耦出效果的条件下,极大地提高衍射光波导的耦入效果,而且该衍射光波导的制备工艺复杂度相较于常规增幅不大。