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模型处理方法及装置、电子设备及存储介质

模型处理方法及装置、电子设备及存储介质

专利申请号:CN202111358022.1

公 开 号:CN114022616B

发 明 人:请求不公布姓名 

代 理 人:北京市柳沈律师事务所彭久云

代理机构:北京市柳沈律师事务所

专利类型:发明专利

申 请 日:20230707

公 开 日:20211116

专利主分类号:G06T17/00

关 键 词:贴图 模型处理 模型坐标系 框架模型 模型框架 绑定关系 存储介质 电子设备 转换过程 映射 创建 优化 

摘      要:一种模型处理方法及装置、电子设备及存储介质,该模型处理方法包括:基于第一模型的模型框架,创建框架模型,第一模型的模型精度为第一精度,第一模型的坐标系为模型坐标系;基于第一模型,生成第一模型的模型贴图,并将模型贴图从模型坐标系映射到贴图坐标系中,创建贴图模型,模型贴图与模型框架之间具有绑定关系;以及基于框架模型和贴图模型,生成第二模型,第二模型的模型精度为第二精度,第二精度不同于第一精度。该模型处理方法可以优化不同精度的模型之间的转换过程。

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