预多孔化实体结构的优化方法、系统、存储介质、设备

专利申请号：CN202010055353.7

公 开 号：CN111292404B

发 明 人：蔡方舟 丁伟 

代 理 人：上海硕力知识产权代理事务所(普通合伙)杨用玲

代理机构：上海硕力知识产权代理事务所(普通合伙)

专利类型：发明专利

申 请 日：20230811

公 开 日：20200117

专利主分类号：G06T15/00

关 键 词：框体 投影 实体结构 多孔化 角点 拉伸 包络体 单胞 压缩 边缘位置 表面缺陷 存储介质 单胞结构 力学性能 曲面曲率 非完整 法向 受力 传导 相交 断裂 封闭 优化 

摘      要：本发明提供了一种预多孔化实体结构的优化方法、系统、存储介质、设备，包括步骤：将预多孔化实体结构边缘位置处的单胞的包络体超出框体的顶点或角点沿着框体的曲面曲率的法向，投影在所述框体的表面；将所述包络体超出所述框体的顶点或角点沿着所述投影的方向压缩或拉伸；随着所述顶点或角点沿着所述投影的方向压缩或拉伸，所述单胞沿着所述投影的方向进行压缩或拉伸。本发明预多孔化实体结构的四周及曲面处的多孔是自相交且封闭的，结构完整，连接处无断裂，无多余的非完整单胞结构，达到了受力更加均匀，力的传导更加合理，消除表面缺陷，结构完整，力学性能提升的效果。