基于全息零级和超表面几何相位的灰度纳米印刷设计方法

专利申请号：CN202210560984.3

公 开 号：CN114895543B

发 明 人：陈奎先 李子乐 郑国兴 

代 理 人：齐晨涵

代理机构：武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙)

专利类型：发明专利

申 请 日：20230818

公 开 日：20220523

专利主分类号：G03H1/10

关 键 词：灰度 印刷术 全息 二氧化硅基 转角 表面几何 纳米印刷 排布 周期性排列 光学器件 灰度图像 几何相位 设计模式 图像显示 信息通道 阵列单元 传统的 反射式 硅纳米 集成度 砖单元 硅基 基底 两层 算法 应用 直观 填补 灵活 观察 

摘      要：本发明公开了一种基于全息零级和超表面几何相位的灰度纳米印刷设计方法，灰度纳米印刷术的信息通道为全息零级，灰度图像信息被编码进超表面上纳米砖阵列的转角排布中；超表面由两层基底、一层反射式纳米砖阵列构成；硅基底上方为二氧化硅基底，二氧化硅基底上排布有周期性排列的硅纳米砖阵列单元，各纳米砖单元大小相同，转角各异；本发明所提出的基于全息零级和超表面几何相位的灰度纳米印刷设计方法，与传统的灰度纳米印刷术相比，几何相位设计模式更加灵活，填补了灰度纳米印刷术在相位领域的空白，其优势在于设计算法简单，集成度极高，无需任何光学器件的协助，能够用肉眼直观观察，可广泛的应用于图像显示等领域，具有广阔的应用前景。