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一种基于共聚焦显微镜的量块测量装置及测量方法

一种基于共聚焦显微镜的量块测量装置及测量方法

专利申请号:CN202310588296.2

公 开 号:CN116625193A

发 明 人:吴俊杰 蔡潇雨 魏佳斯 李源 周勇 孙恺欣 

代 理 人:上海剑秋知识产权代理有限公司袁巍

代理机构:上海剑秋知识产权代理有限公司

专利类型:发明专利

申 请 日:20230822

公 开 日:20230523

专利主分类号:G01B5/02

关 键 词:量块 共聚焦显微镜 测量 测量面 量块测量 辅助面 测量效率 定位量块 范围扫描 方向测量 快速移动 直接定位 慢速 扫描 

摘      要:本发明涉及一种基于共聚焦显微镜的量块测量装置及方法,通过采用两台共聚焦显微镜直接定位量块的两个测量面,实现量块长度的测量,无需借助辅助面,避免了采用其他原理单方向测量时存在的量块与辅助面研合间隙造成的测量误差,结果更为准确可靠。本发明涉及的一种基于共聚焦显微镜的量块测量装置采用两台共聚焦显微镜对顶测量的方式,通过定位量块两个测量面实现测量,无需进行全范围扫描,仅需在量块的测量面附近进行慢速扫描,其余位置均可快速移动,在测量长度较长的量块时,可有效提升测量效率。

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