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一种用于囚禁离子的小型真空装置和方法

一种用于囚禁离子的小型真空装置和方法

专利申请号:CN202011466758.6

公 开 号:CN112582247B

发 明 人:王暖让 赵环 陈星 薛潇博 张升康 

代 理 人:北京国昊天诚知识产权代理有限公司南霆

代理机构:北京国昊天诚知识产权代理有限公司

专利类型:发明专利

申 请 日:20230912

公 开 日:20201214

专利主分类号:H01J49/06

关 键 词:馈电 法兰 离子 真空腔体 小型真空装置 第二腔体 石英窗口 体内 电子枪 组接口 腔体 电子束 离子阱中心 第一腔体 离子微波 顺序连接 真空泵组 真空装置 抽真空 静电场 离子阱 炉子 交变 射频 加热 申请 对准 

摘      要:本申请公开了一种用于囚禁离子的小型真空装置和方法,所述小型真空装置包含泵组接口、馈电法兰、石英窗口、真空腔体;所述真空腔体包含顺序连接的第一腔体、第二腔体、第三腔体;所述泵组接口,用于连接真空泵组;所述馈电法兰位于所述真空腔体的两端,第一馈电法兰对安装于第一腔体内的电子枪进行馈电;电子枪产生的电子束经位于第二腔体内的离子阱进入第三腔体;第二馈电法兰对安装于第三腔体内的炉子馈电;所述石英窗口位于第二腔体壁。所述方法包含抽真空、对准、加热、加交变射频和静电场的步骤,使离子囚禁于离子阱中心。本申请解决目前离子微波频标用囚禁离子真空装置体积较大、囚禁离子数较少等问题。

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