一种多重灰度掩膜连续成型方法

专利申请号：CN202310717113.2

公 开 号：CN116834275A

发 明 人：陈林 王宜怀 孙淼 张露 孟雪 史洪玮 王力申 郑国莉 朱银杏 杨康 

代 理 人：袁丽花

代理机构：苏州见山知识产权代理事务所(特殊普通合伙)

专利类型：发明专利

申 请 日：20231003

公 开 日：20230616

专利主分类号：B29C64/129

关 键 词：连续成型 三维模型 灰度掩膜 切片 成型 紫外光 边缘能量 单层固化 固化过程 灰度调制 模型实体 树脂表面 树脂浆料 陶瓷浆料 投影过程 投影设备 掩膜图像 组合拼接 大幅面 均匀化 拼接处 等厚 接缝 拼接 制备 固化 申请 投影 打印 曝光 应用 

摘      要：本申请提供一种多重灰度掩膜连续成型方法，包括：对三维模型等厚切片，然后将其按照投影设备拼接模式进行切分处理；使用边缘能量均匀化方法消除拼接处的接缝；按照固化顺序将切分后的单元掩膜图像以组合拼接投影的方式曝光至树脂表面，在每一层切片固化过程中，利用最佳灰度调制公式对投影过程中的紫外光进行控制，完成单层固化。对于流动性较好的树脂浆料，本申请的多重灰度掩膜连续成型方案能以较高的质量完成大幅面三维模型的连续成型工作，模型实体表面质量好，成型精度较高。对于流动性较差的陶瓷浆料，相对于传统CLIP制备的三维模型，模型尺寸有所提高，同时保持了CLIP成型精度高、打印速度快的优势，表明该方案具有较高的实际应用价值。