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一种基于墙体低秩稀疏约束的穿墙雷达成像方法
专利申请号：CN202010491482.0
公 开 号：CN111551928B
代 理 人：西安通大专利代理有限责任公司朱海临
代理机构：西安通大专利代理有限责任公司
专利类型：发明专利
申 请 日：20230915
公 开 日：20200602
专利主分类号：G01S13/88
关 键 词：墙体 雷达成像 杂波抑制 穿墙 低秩 范数 重构 成像 目标反射信号 最小二乘优化 数据保真度 一体化处理 迭代循环 反射杂波 目标成像 目标函数 目标信号 问题转化 正则化项 重要特性 最小二乘 惩罚项 稀疏性 正则化 稀疏 杂波
摘 要：本发明公开了一种基于墙体低秩稀疏约束的穿墙雷达成像方法，利用了穿墙雷达成像中信号的两种重要特性：墙体反射杂波的低秩性和目标反射信号的稀疏性，本发明将墙体杂波抑制和目标重构问题转化为正则化最小二乘优化问题，其目标函数包括数据保真度(最小二乘)项，核范数正则化项和l1范数惩罚项，实现墙体杂波抑制和目标成像的一体化处理，在迭代循环中，将墙体杂波分离出来，同时对目标信号进行重构成像，提高了成像的质量。
