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内蒙古自治区呼和浩特市赛罕区大学西街235号 邮编: 010021
一种化学机械抛光液
专利申请号：CN201911327371.X
公 开 号：CN113004800B
代 理 人：北京大成律师事务所李佳铭;王芳
代理机构：北京大成律师事务所
专利类型：发明专利
申 请 日：20240412
公 开 日：20191220
专利主分类号：C09G1/02
关 键 词：化学机械抛光液 抛光 氮化硅 氧化硅 氧化剂 氮化硅表面 表面缺陷 分子表面 缺陷抑制 研磨颗粒 抛光钨 平坦化 稳定剂 催化剂 申请 保证
摘 要：本发明提供一种化学机械抛光液，包括：研磨颗粒、催化剂、稳定剂、交联大分子表面缺陷抑制剂、氧化剂、水和pH调节剂。本申请的化学机械抛光液实现了同时抛光钨、氧化硅和氮化硅，保证高的钨的抛光速度的同时兼具中等的氧化硅速度和低的氮化硅速度，大大降低了抛光后氮化硅表面的表面缺陷，实现快速平坦化。
