咨询与建议

看过本文的还看了

相关文献

该作者的其他文献

文献详情 >基片处理的条件设定辅助方法、基片处理系统、存储介质和学习模型 收藏
基片处理的条件设定辅助方法、基片处理系统、存储介质和学习模型

基片处理的条件设定辅助方法、基片处理系统、存储介质和学习模型

专利申请号:CN201980074177.7_sq

公 开 号:CN112997274B

发 明 人:下青木刚 桾本裕一朗 滨田佳志 羽山隆史 

代 理 人:龙淳;牛孝灵

代理机构:北京尚诚知识产权代理有限公司

专利类型:发明专利

申 请 日:20240830

公 开 日:20191112

专利主分类号:H01L21/027

摘      要:本发明提供的基片处理的条件设定辅助方法包括:将数据集输入到机器学习装置的步骤,其中,数据集包括基片处理的处理条件和关于该基片处理的质量的实际数据,基片处理由基片处理装置执行并且包括对基片供给处理液的处理;和基于学习模型导出基片处理的推荐处理条件的步骤,其中,学习模型是由机器学习装置基于多组数据集通过机器学习而生成的模型,能够响应于处理条件的输入而输出关于基片处理的质量的预测数据。

读者评论 与其他读者分享你的观点

用户名:未登录
我的评分