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内蒙古自治区呼和浩特市赛罕区大学西街235号 邮编: 010021
专利申请号:CN200810172718.3
公 开 号:CN101459054B
代 理 人:龙淳
代理机构:11322 北京尚诚知识产权代理有限公司
专利类型:授权发明
申 请 日:20100922
公 开 日:20081111
专利主分类号:H01L21/00(20060101)
关 键 词:掩模 基台 保持部件 待机位置 等离子体处理装置 等离子体处理 基板 时基 定位机构定位 处理容器 定位机构 升降机构 装卸 过渡
摘 要:本发明提供一种等离子体处理装置,能够对覆盖基板的外周缘部分的掩模进行准确的定位。在等离子体处理装置(1)的处理容器(10)内具有:在非等离子体处理时基台(12)下降到待机位置、在等离子体处理时基台(12)上升到处理位置的升降机构(14);在待机位置和处理位置之间以装卸自如的方式保持覆盖基板(G)的外周缘部分的掩模(31)的保持部件(30);在基台(12)上对掩模(31)进行定位的定位机构,掩模(31)没有被保持部件(30)定位,并且,能够在水平方向上自由移动地被保持,在基台(12)从待机位置上升到处理位置时,掩模(31)被从保持部件(30)过渡到基台(12)上,并且,在基台(12)上掩模(31)通过定位机构定位。