等离子体处理装置

专利申请号：CN200810172718.3

公 开 号：CN101459054B

发 明 人：小林聪树 杉山正树 

代 理 人：龙淳

代理机构：11322 北京尚诚知识产权代理有限公司

专利类型：授权发明

申 请 日：20100922

公 开 日：20081111

专利主分类号：H01L21/00(20060101)

关 键 词：掩模 基台 保持部件 待机位置 等离子体处理装置 等离子体处理 基板 时基 定位机构定位 处理容器 定位机构 升降机构 装卸 过渡 

摘      要：本发明提供一种等离子体处理装置，能够对覆盖基板的外周缘部分的掩模进行准确的定位。在等离子体处理装置(1)的处理容器(10)内具有：在非等离子体处理时基台(12)下降到待机位置、在等离子体处理时基台(12)上升到处理位置的升降机构(14)；在待机位置和处理位置之间以装卸自如的方式保持覆盖基板(G)的外周缘部分的掩模(31)的保持部件(30)；在基台(12)上对掩模(31)进行定位的定位机构，掩模(31)没有被保持部件(30)定位，并且，能够在水平方向上自由移动地被保持，在基台(12)从待机位置上升到处理位置时，掩模(31)被从保持部件(30)过渡到基台(12)上，并且，在基台(12)上掩模(31)通过定位机构定位。