咨询与建议

看过本文的还看了

相关文献

该作者的其他文献

文献详情 >等离子体处理装置 收藏
等离子体处理装置

等离子体处理装置

专利申请号:CN200810172718.3

公 开 号:CN101459054B

发 明 人:小林聪树 杉山正树 

代 理 人:龙淳

代理机构:11322 北京尚诚知识产权代理有限公司

专利类型:授权发明

申 请 日:20100922

公 开 日:20081111

专利主分类号:H01L21/00(20060101)

关 键 词:掩模 基台 保持部件 待机位置 等离子体处理装置 等离子体处理 基板 时基 定位机构定位 处理容器 定位机构 升降机构 装卸 过渡 

摘      要:本发明提供一种等离子体处理装置,能够对覆盖基板的外周缘部分的掩模进行准确的定位。在等离子体处理装置(1)的处理容器(10)内具有:在非等离子体处理时基台(12)下降到待机位置、在等离子体处理时基台(12)上升到处理位置的升降机构(14);在待机位置和处理位置之间以装卸自如的方式保持覆盖基板(G)的外周缘部分的掩模(31)的保持部件(30);在基台(12)上对掩模(31)进行定位的定位机构,掩模(31)没有被保持部件(30)定位,并且,能够在水平方向上自由移动地被保持,在基台(12)从待机位置上升到处理位置时,掩模(31)被从保持部件(30)过渡到基台(12)上,并且,在基台(12)上掩模(31)通过定位机构定位。

读者评论 与其他读者分享你的观点

用户名:未登录
我的评分