槽式湿法清洗机台

专利申请号：CN201711178278.8

公 开 号：CN107993964A

发 明 人：王春伟 仓凌盛 张传民 

代 理 人：王江富

代理机构：31211 上海浦一知识产权代理有限公司

专利类型：发明申请

申 请 日：20180504

公 开 日：20171123

专利主分类号：H01L21/67(20060101)

关 键 词：主动轴 硅片托架 硅片 第一驱动机构 从动轴 主设备 角度设置模块 湿法清洗机台 顶部设置 清洗槽 右托架 左托架 清洗 电脑 硅片表面颗粒 驱动 硅片放置 清洗效果 纵向相对 槽式 压靠 种槽 平行 污染 

摘      要：本发明公开了一种槽式湿法清洗机台，其包括清洗槽、主设备电脑、硅片托架、第一驱动机构；硅片托架包括纵向相对布置的左托架及右托架；左托架及右托架，其中一个的顶部设置有纵向的主动轴，另一个的顶部设置有纵向的从动轴；硅片托架置于所述清洗槽内，待清洗硅片放置到硅片托架上后，下部周缘分别压靠到主动轴及从动轴，并且主动轴及从动轴平行于待清洗硅片的轴线；第一驱动机构用于驱动主动轴旋转；主设备电脑包括硅片角度设置模块；主设备电脑，根据用户通过硅片角度设置模块输入的硅片角度，控制第一驱动机构驱动主动轴旋转相应角度。本发明的槽式湿法清洗机台，能提升清洗效果，降低硅片表面颗粒污染。