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优化融合的模拟空间光学-电磁屏蔽环境复合暗室

优化融合的模拟空间光学-电磁屏蔽环境复合暗室

专利申请号:CN201410119661.6

公 开 号:CN103866997B

发 明 人:李康 刁海南 

代 理 人:刘懿

代理机构:31272 上海申新律师事务所

专利类型:授权发明

申 请 日:20151230

公 开 日:20140327

专利主分类号:E04H1/12(20060101)

关 键 词:吸波 暗室 背架 尖劈 消光 电磁屏蔽 环境模拟 挂接 六面 网格 电磁屏蔽效能 方形框架结构 方形框架 可见表面 空间光学 模拟空间 内侧安装 屏蔽效能 双模产品 特性参数 微波信号 消光涂层 由主龙骨 不透光 电性能 副龙骨 消光率 龙骨 融合 顶棚 侧墙 内侧 下方 密布 微波 测量 遍布 复合 构成 优化 

摘      要:优化融合的模拟空间光学-电磁屏蔽环境复合暗室,暗室为六面方形框架结构,四侧墙内侧和顶棚下方采用龙骨-背架方式遍布挂接安装消光吸波尖劈(5),即六面方形框架内侧安装由主龙骨(9)和副龙骨(2)构成的网格背架(6),继而在网格背架(6)上不透光密布挂接吸波基座(4),吸波基座(4)上安装消光吸波尖劈(5);消光吸波尖劈(5)的所有可见表面有消光涂层(12)。可同时用于测量微波/红外双模产品的各项特性参数,空间光学环境模拟与空间电磁屏蔽环境模拟达到100%融合;工作区消光率由90%提高到了95%以上,电磁屏蔽效能高,暗室电性能对2GHZ-18GHZ微波信号屏蔽效能为90dB。

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