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内蒙古自治区呼和浩特市赛罕区大学西街235号 邮编: 010021
具有二维对准测量装置的光刻设备和二维对准测量方法
专利申请号：CN200510003559.0
公 开 号：CN1794089B
发 明 人：F·B·M·范比森
代 理 人：王波波
代理机构：11021 中科专利商标代理有限责任公司
专利类型：授权发明
申 请 日：20100407
公 开 日：20051222
专利主分类号：G03F7/20(20060101)
关 键 词：检测器 光学系统 斑点 处理器 辐射 光源 平行 对准装置 光刻设备 计算标记 延伸 排列
摘 要：光刻设备具有用来移动带有标记(M3)的对象的执行器，所述标记具有多个排列成行和列的结构(19)。对准装置包括光源、光学系统和检测器。光源和光学系统产生在与列平行的第一方向延伸的第一斑点部分(24x)和在与行平行的第二方向延伸的第二斑点部分(24y)。光学系统把对准辐射束射向标记(M3)，接收从标记(M3)返回的对准辐射，并把对准辐射传送给检测器。检测器把对准信号传送给处理器，处理器根据对准信号计算标记(M3)的二维位置。
