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内蒙古自治区呼和浩特市赛罕区大学西街235号 邮编: 010021
光刻装置和器件制造方法
专利申请号：CN201110128559.9
公 开 号：CN102207688A
发 明 人：J·P·H·本肖普 H·巴特勒 N·R·肯帕 B·H·科克 F·范德穆伦 H·K·范德舒特
代 理 人：王波波
代理机构：11021 中科专利商标代理有限责任公司
专利类型：发明申请
申 请 日：20111005
公 开 日：20070319
专利主分类号：G03F7/20(20060101)
关 键 词：遮蔽 交换过程 投影系统 基底 光刻投影装置 液体供给系统 计量框架 连接 支撑 接触
摘 要：公开了一种光刻投影装置，其中在基底交换过程中利用遮蔽构件来遮挡该液体供给系统，从而在基底交换过程中确保液体与投影系统的一元件保持接触。该遮蔽构件与支撑投影系统的计量框架连接。通过这种方式，遮蔽构件的位置总是已知的。
