一种利用阶梯型微米狭缝实现的高效纳米聚焦器件

专利申请号：CN201310261469.6

公 开 号：CN103308964A

发 明 人：陈建军 肖井华 张茹 吴刚 

代 理 人：王岩

代理机构：北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙)

专利类型：发明申请

申 请 日：20130918

公 开 日：20130627

专利主分类号：G02B5/18(20060101)

关 键 词：狭缝 聚焦器件 阶梯型 高折射率 聚焦强度 介质膜 金属膜 衬底 排列 高密度集成 玻璃衬底 高效纳米 光斑大小 横向尺寸 设计表面 研究方向 有限厚度 叠放 元器件 对子 

摘      要：本发明公开了一种利用阶梯型微米狭缝实现的高效纳米聚焦器件。本发明的阶梯型微米狭缝纳米聚焦器件包括：衬底；在衬底上设置有依次叠放的多层金属膜；在每一层金属膜中开设有微米狭缝；微米狭缝的宽度从下至上依次增大，在纵向方向上成阶梯型微米狭缝；用有限厚度的高折射率的介质膜替代无限厚度的玻璃衬底，聚焦强度会因为高折射率的介质膜中的FP腔效应而有显著提高。本发明对子结构进行纵向排列，从而大大减小聚焦器件的横向尺寸，这对于实现表面等离激元器件高密度集成是十分重要的。本发明得到聚焦强度达到最大值是入射光强度的5.2倍，并且光斑大小变成300nm；纵向排列微米狭缝也为设计表面等离激元纳米聚焦器件提供了新的研究方向。