粒子射线治疗设施的设计辅助方法、粒子射线治疗设施的制造方法及粒子射线治疗设施

专利申请号：CN201480083544.7

公 开 号：CN106999724A

发 明 人：岩田高明 

代 理 人：万捷

代理机构：31100 上海专利商标事务所有限公司

专利类型：发明申请

申 请 日：20170801

公 开 日：20141121

专利主分类号：A61N5/10(20060101)

关 键 词：凹区域 治疗室 计算步骤 粒子射线 设计辅助 显示步骤 模型空间 模型移动 作业结束 投影 治疗 反复执行 配置对象 显示装置 移动指示 配置的 移动 配置 制造 研究 治疗室 凹区域 设计辅助 计算步骤 显示步骤 粒子射线 模型配置 模型移动 配置的 模型生成步骤 投影 模型空间 配置对象 作业结束 屏蔽壁 外周 连结 集合 配置 治疗 带电粒子射束 地板方向 对象照射 反复执行 三维模型 显示装置 旋转机架 移动指示 对象点 二维 照射 移动 

摘      要：本发明的目的在于提供一种对多个治疗室的布局进行了研究的粒子射线治疗设施的设计辅助方法、粒子射线治疗设施的制造方法。本发明的粒子射线治疗设施的设计辅助方法包括如下步骤：计算配置于与配置对象空间相对应的模型空间中的多个治疗室模型内最接近地配置的两个治疗室模型之间的凹区域即局部凹区域的体积或局部凹区域的投影面积的局部凹区域计算步骤；将由局部凹区域计算步骤计算得到的局部凹区域的体积或投影面积显示于设计辅助装置的显示装置的凹区域计算结果显示步骤；以及在凹区域计算结果显示步骤后没有作业结束指示的情况下，根据治疗室模型的移动指示在模型空间中移动治疗室模型的治疗室模型移动步骤，反复执行局部凹区域计算步骤、凹区域计算结果显示步骤、治疗室模型移动步骤，直到具有作业结束指示为止。