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一种ALD新型反应室
专利申请号：CN201711179066.1
公 开 号：CN107805796A
代 理 人：洪洋
代理机构：32274 南京申云知识产权代理事务所(普通合伙)
专利类型：发明专利
申 请 日：20180316
公 开 日：20171123
专利主分类号：C23C16/455(20060101)
关 键 词：加热基板 分气板 进气孔 前驱体 前驱体气体 沉积效率 腔体内部 装置表面 多孔洞 反应腔 反应室 均匀度 均匀性 上腔体 室内部 下腔体 气压 薄膜 生长 引入
摘 要：本发明公开了一种ALD新型反应室，具体包括:下腔体‑1；加热基板装置‑2；进气孔‑3；上腔体‑4；分气板‑5。本发明通过引入多孔洞结构的分气板将通过进气孔的前驱体气体分散成均匀的气流进入反应腔室内部。该设计方法可以使得前驱体在加热基板装置表面均匀分布，有效提高腔体内部气流和气压均匀性，提高生长薄膜的均匀度，同时，该设计方法可以提高沉积效率，减少前驱体使用量。
