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成像设备和成像系统
专利申请号：CN201410808890.9
公 开 号：CN104754254B
发 明 人：国米和夫 大贯裕介 成濑裕章 楠川将司 广田克范 远藤信之 山崎和男 小林広明
代 理 人：袁玥
代理机构：11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
专利类型：授权发明
申 请 日：20180731
公 开 日：20141223
专利主分类号：H04N5/374(20110101)
关 键 词：晶体管 绝缘栅晶体管 电势差 模拟信号处理电路 施加 成像设备 成像系统 像素电路
摘 要：公开了成像设备和成像系统。多个像素电路中的每一个都是绝缘栅晶体管，并包括第一种晶体管，所述第一种晶体管具有要施加的等于或高于第一值的栅极电势差的最大值。多个模拟信号处理电路中的每一个是绝缘栅晶体管，并包括第二种晶体管，所述第二种晶体管具有要施加的等于或低于比所述第一值低的第二值的栅极电势差的最大值。多个模拟信号处理电路中的每一个不包括具有要施加的不比第二值高的栅极电势差的最大值的绝缘栅晶体管。
