具有晶片映射功能的晶片处理设备

专利申请号：CN200310120955.2

公 开 号：CN1248302C

发 明 人：江本淳 加贺谷武 山崎一夫 

代 理 人：北京市中咨律师事务所马江立;吴鹏

代理机构：11247 北京市中咨律师事务所

专利类型：发明专利

申 请 日：20060329

公 开 日：20031114

专利主分类号：H01L21/68(20060101)

关 键 词：晶片 处理设备 检测 挡块 透射传感器 移动传感器 分度装置 驱动装置 传感器 透射 处理工艺 高度稳定 简化结构 气动气缸 映射功能 搁板 支架 

摘      要：本发明涉及具有晶片映射功能的晶片处理设备。如果在容器中支架的每一个搁板上放置多个晶片，在处理工艺中将出现一些问题。另外，在某些检测晶片的设备中，速度不是高度稳定的驱动装置，例如气动气缸用来移动传感器，以便简化结构。在用这种驱动装置移动传感器进行检测的情况下，误差变大，并且难以精确地检测晶片。本发明提供了具有透射晶片检测传感器、具有分度装置的挡块和用于挡块的透射传感器的晶片处理设备。晶片处理设备计算来自透射晶片检测传感器的信号的持续时间与来自用于挡块的透射传感器的对应于分度装置的信号的持续时间的比值，并将比值与预先设定的阈值进行比较，以确定晶片的数量。