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双面研磨方法

双面研磨方法

专利申请号:CN201380046138.9

公 开 号:CN104602864B

发 明 人:佐佐木正直 青木一晃 安田太一 佐藤勇章 汤浅雄大 浅井一将 古川大辅 

代 理 人:谢顺星;张晶

代理机构:11002 北京路浩知识产权代理有限公司

专利类型:授权发明

申 请 日:20161109

公 开 日:20130808

专利主分类号:B24B37/28(20060101)

关 键 词:晶圆 内周 双面研磨 研磨 插入物 树脂 垂直度 平面度 平坦度 角度定义 形状变化 凹凸的 高低差 内周面 上端部 上平板 下端部 下平板 研磨布 周缘部 恶化 夹持 塌边 外周 粘贴 连结 垂直 配置 

摘      要:本发明是一种双面研磨方法,其在载体上保持晶圆,且利用粘贴有研磨布的上平板和下平板来夹持所述载体,并同时研磨所述晶圆的双面,其中,所述载体具有:保持孔,其用于保持所述晶圆;环状的树脂插入物,其沿着所述保持孔的内周而配置,且具有接触所述所保持的晶圆的周缘部的内周面;该双面研磨方法的特征在于,在将所述树脂插入物的内周面上的凹凸的最大高低差定义为所述内周面的平面度,并将连结所述内周面的上端部与下端部的直线与垂直于载体主面的直线所夹的角度定义为所述内周面的垂直度时,一边将所述平面度维持在100μm以下,并将所述垂直度维持在5°以下,一边研磨所述晶圆的双面。由此,提供一种双面研磨方法,该双面研磨方法尤其能够抑制如外周塌边这样的研磨后的晶圆的平坦度的恶化,该平坦度的恶化由于载体的树脂插入物的内周面的形状变化所导致。

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